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ITO粉制作靶材的三种工艺方法

点击次数:   更新时间:17/03/31 08:36:03     来源:www.whbljdz.com关闭分    享:

    正如大家所知道的,ITO粉是制作靶材的好材料。在ITO靶材的生产工艺中,主要有热压法、热等静压法和气氛烧结法三种方

式。其特点如下:
    1、热压法:ITO靶材的热压制作过程是在石墨或氧化铝制的模具内充填入适当粉末以后,以100kgf/cm 2~1000kgf/cm 2的压力单轴向加压,同时以1000℃~1600℃进行烧结。热压工艺制作过程所需的成型压力较小,烧结温度较低,烧结时间较短。但不能生产大尺寸的靶。
    2、热等静压法:ITO靶材的热等静压制作过程是将粉末或预先成形的胚体,在800℃~1400℃及1000kgf/cm 2~2000kgf/cm2的压力下等方加压烧结。热等静压工艺制造产品密度高、物理机械性能好,但设备投入高,生产成本高,产品的缺氧率高。
    3、烧结法:ITO靶材烧结制作法是在以铟锡氧化物共沉淀粉末或氧化铟和氧化锡混合粉末为原料,加入黏结剂和分散剂混合后,压力成型,脱脂,然后于1400℃~1600℃烧结。烧结法设备投入少,成本低,产品密度高、缺氧率低,尺寸大。
    利用ITO粉制作靶材主要包括以上三种方法,每一种方法都具有各自的特色,适用于不同的靶材。

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