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ITO粉的制备及表面修饰

点击次数:   更新时间:16/12/09 14:22:12     来源:www.whbljdz.com关闭分    享:
    ITO粉的制备及表面修饰受到了很多人的关注,下面,小编为您详细介绍一下吧!
    ITO粉的制备以InCl3·4H2O和SnCl4·5H2O为原料,采用共沉淀法制备ITO纳米粉,并对其进行修饰。其过程包括称取一定比例的InCl3·4H2O和SnCl4·5H2O配制成一定浓度的水溶液,并加入一定量的PVA于恒温水浴中,在剧烈的搅拌下慢慢滴加NH3·H2O至一定pH为止,继续搅拌一段时间后,在此温度下静置老化,对沉淀进行离心、分离、洗涤,再进行后处理、干燥、煅烧,得ITO纳米粉,再对其进行表面修饰。
    所制ITO粉具有立方晶系结构、颗粒均匀、分散性良好、与基体相容、平均粒径为20nm左右。