中文 |  ENGLISH


   电话:  0631-7601170

   传真:  0631-7602170
   联系人:  刘经理  慕小姐
   地址:  山东荣成市将军北路6号
   邮箱:  lanhu_ito@tom.com

ITO粉制作靶材的发展趋势

点击次数:   更新时间:17/06/10 09:20:06     来源:www.whbljdz.com关闭分    享:
    随着LCD技术的发展,对ITO粉的要求也随之提高。利用ITO粉制作的靶材大致具有如下发展趋势:
    1、高密度化。靶材密度的改善直接带来的益处主要表现在减少黑化和降低电阻率方面。靶材若为低密度时,有效溅射表面积会减少,溅射速度也会降低,靶材表面黑化趋势加剧。
    2、尺寸大型化。随着液晶模块产品轻薄化和低价化趋势的不断发展,相应的ITO玻璃基板也出现了明显的大型化的趋势,因此ITO靶材单片尺寸大型化不可避免。
    3、靶材本体一体化。靶材将朝大面积发展,以往技术能力不足时,必须使用多片靶材拼焊成大面积,但由于接合处会造成镀膜质量下降,因此目前大多以一体成形为主,以提升镀膜质量与使用率。
    目前,靶材利用率可达40%,随着液晶显示器行业对材料成本要求的提高,提高ITO粉制作靶材的利用率也将是未来的发展方向之一。
上一条:没有了
下一条:氮化硅陶瓷结构件的特点